據報導，位於上海的一家國有半導體設備公司已展開量產浸沒式深紫外光刻機（DUV），這一設備在各類芯片生產中不可或缺。雖然分析指出，中國技術方面仍存在一些障礙，極紫外光刻機（EUV）則是一座難以跨越的門檻。
據路透社7月28日報導，知情人士透露，中國國企上海愛晟納電子科技集團已展開量產中國自主研發的DUV。這家公司整合了中國多家設備公司的團隊，成為這項國產化計劃的主要推動者。
根據商業資料，上海愛晟納成立於2023年8月，註冊資本高達70億元人民幣，股東包括上海電氣控股集團和上海國際信託旗下公司，這兩家公司均為國有企業。
有知情人士表示，愛晟納已整合了新創企業宇量升和上海微電子裝備（SMEE）的部分團隊。宇量升是華為支持的半導體設備企業，該企業去年已開始測試DUV原型機，是中共政府半導體自主研發策略的重要企業之一。企業和招募資料也表明，愛晟納與宇量升在上海使用相同的地址。
此外，華為和清華大學的研究團隊也參與了這一技術的開發。
科技媒體The Information披露了更多訊息，指出愛晟納的目標是在今年生產約5台機器，到2027年將增至約20台。相關設備預計今年交付給中芯國際、華虹半導體和內存製造商長鑫科技。
由於美國政府出台出口管制措施，限制中國企業獲得EUV（極紫外光刻機），因此，DUV（深紫外光刻機）已成為中國芯片製造商目前獲得的最先進光刻設備。
目前尚不清楚中國企業使用自主研發的DUV能否達到或超越荷蘭光刻機公司ASML設備的芯片良率。
對此，Futurum Group人工智能研究主管尼克‧佩興斯（Nick Patience）對CNBC表示，ASML通過數十年的實際使用經驗不斷改進設備。與ASML相比，中國企業還需經歷長時間的現場測試與技術迭代，不能僅僅達到「可運作」的標準，至少在良率方面需要趕上現有的設備水準。
他強調，可靠性也是一項考驗。晶圓廠通常全年24小時運作，光刻機必須在數千次晶圓曝光過程中保持準確的對準誤差、產能和穩定性。
